快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)保證其優(yōu)良的強(qiáng)度性能
更新時(shí)間:2020-07-10 點(diǎn)擊次數(shù):1025
快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)在液液混合裝置、細(xì)胞收集裝置和電磁反饋控制裝置共同作用下,細(xì)胞培養(yǎng)液與低溫細(xì)胞淬滅溶液得到充分混合,且細(xì)胞可瞬間降至低溫,有效抑制酶活力、代謝淬滅*,引入電磁反饋控制裝置和真空泵使終點(diǎn)的淬滅溶劑濃度可控,實(shí)現(xiàn)細(xì)胞培養(yǎng)液與低溫細(xì)胞淬滅溶液體積比的準(zhǔn)確控制,使胞內(nèi)代謝物數(shù)據(jù)真實(shí)可靠,各裝置之間相輔相成,實(shí)現(xiàn)對(duì)細(xì)胞進(jìn)行及時(shí)、*代謝淬滅。
快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)采用上述系統(tǒng)進(jìn)行代謝淬滅的方法,簡(jiǎn)單易行,準(zhǔn)確率高,為微生物、動(dòng)物以及植物細(xì)胞的胞內(nèi)代謝物研究提供技術(shù)支持。熒光淬滅是指熒光分子由內(nèi)部因素和外部因素同時(shí)作用造成的不可逆破壞,內(nèi)部因素主要是分子從激發(fā)態(tài)回到基態(tài)以非輻射躍遷形式釋放能量,外部因素則包含多方面。
光照射是致熒光淬滅的常見(jiàn)原因,熒光的產(chǎn)生需要光照射,但同時(shí)光照射也會(huì)促進(jìn)激發(fā)態(tài)分子與其他分子相互作用而引起碰撞,使熒光淬滅;標(biāo)記樣品的熒光淬滅是在熒光顯微鏡和激光共聚焦顯微鏡觀察時(shí)遇到的主要問(wèn)題。快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)具有更強(qiáng)的功率和聚焦更準(zhǔn)確的光束,與普通熒光顯微鏡相比,標(biāo)本的光漂白作用更為明顯,熒光素的熒光可在連續(xù)觀察過(guò)程中逐漸減弱或消失。
快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)電路采用相同的結(jié)構(gòu)框架,結(jié)合主動(dòng)、門(mén)控兩種淬滅方式,通過(guò)電阻或電容感應(yīng)雪崩電流,采用基于失調(diào)控制的差分放大低閾值檢測(cè)電路,打破傳統(tǒng)設(shè)計(jì)中淬滅電路的檢測(cè)閾值必須大于MOS管開(kāi)啟電壓的約束,實(shí)現(xiàn)對(duì)雪崩電流的快速檢測(cè)。
快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)具有高增益、低功耗、小體積等特點(diǎn),可以快速分辨并響應(yīng)單光子信號(hào),現(xiàn)已被廣泛地應(yīng)用在單光子探測(cè)系統(tǒng)中。目前,單光子探測(cè)技術(shù)正在向集成大陣列方向發(fā)展,陣列的一致性探測(cè)成為重要性能指標(biāo)。對(duì)于擊穿電壓的非均勻性現(xiàn)象,快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)的設(shè)計(jì)對(duì)單光子陣列探測(cè)系統(tǒng)的性能起著關(guān)鍵作用。