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臺式磁控濺射鍍膜儀

簡要描述:臺式磁控濺射鍍膜儀
該系統(tǒng)可以作為以下功能裝置:
1,研發(fā)級R&D鍍膜設備,性能優(yōu)異
2,具備所有研發(fā)級別的鍍膜要求
3,高效的沉積速率,鍍膜時間快
4, 實驗室中培訓的工具

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  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-08-27
  • 訪  問  量:1661

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臺式磁控濺射鍍膜儀

該系統(tǒng)可以作為以下功能裝置:
1,研發(fā)級R&D鍍膜設備,性能優(yōu)異
2,具備所有研發(fā)級別的鍍膜要求
3,高效的沉積速率,鍍膜時間快
4, 實驗室中培訓的最工具


臺式磁控濺射鍍膜儀
主要的特點和先進的功能:
1, 臺式,小型,快速
2,全自動化程序控制
3,單靶或多靶聯(lián)合濺射鍍膜,多路氣體管路
4,共聚焦設計,靶槍尺寸:2英寸,3英寸,4英寸,襯底可做到200mm,旋轉1-20RPM,以及Load-lock配置
5,配置干泵+分子泵,可達高真空,適用高品質薄膜沉積。
6, 可做直流濺射,射頻濺射,100W射頻偏壓(用于襯底表面清洗)

性能價格比高!!


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