簡(jiǎn)要描述:真空快速退火爐-材料設(shè)備一般都是以紅外鹵素?zé)魹榘l(fā)熱元件,升溫速度極快,采用熱電偶測(cè)溫并采用*的PID控制,具有很高的控溫精度,快速退火爐具有真空裝置,可在多種氣氛下工作。大大提高了其使用范圍。
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真空快速退火爐-材料設(shè)備(RTP)一般都是以紅外鹵素?zé)魹榘l(fā)熱元件,升溫速度極快,采用熱電偶測(cè)溫并采用國(guó)際*的PID控制,具有很高的控溫精度,快速退火爐具有真空裝置,可在多種氣氛下工作。大大提高了其使用范圍。
儀器規(guī)格:
加熱方式:紅外鹵素鎢燈;
最大樣品尺寸: 2--6寸,單片;
最高溫度: 1200度;
工作氣體:最多3路氣體(MFC控制),可通入氧氣,氮?dú)饧岸栊詺怏w;
極限真空:5e-3torr;
真空泵:機(jī)械泵(可選配分子泵,干泵);
工藝控制:手動(dòng)工藝控制;
循環(huán)水冷卻,提高降溫速度;
結(jié)構(gòu)緊湊,經(jīng)濟(jì)實(shí)惠。
應(yīng)用:
快速熱升溫工藝(熱退火);
薄柵氧化(納米器件);
低熔點(diǎn)壓焊(反應(yīng)金屬壓焊);
硅化物構(gòu)造;
硅化物界點(diǎn)構(gòu)造等。
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