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狹縫擠出式涂布機是一款應(yīng)用狹縫擠出式涂布模頭對基材進行非接觸式涂布的一款設(shè)備。該設(shè)備通過配置狹縫擠壓涂布模頭、精密計量供料系統(tǒng)與進料閥體配合可實現(xiàn)連續(xù)涂布和條紋涂布兩種類型的涂布功能。設(shè)備涂布精度高，一致性和穩(wěn)定性好，廣泛應(yīng)用于鋰離子電池、FCCL、光學(xué)薄膜、膠帶以及各種功能薄膜行業(yè)，狹縫擠出涂布方式，涂布精度高，涂層一致性好；供料閥體配合模頭墊片，可實現(xiàn)連續(xù)、間歇、條紋、網(wǎng)格等形狀的涂布；模頭根據(jù)客戶材料特性設(shè)計，可實現(xiàn)超薄亞微米級涂布；計量泵供料，漿料封閉運行，可自由設(shè)定...

深能級瞬態(tài)譜儀是半導(dǎo)體領(lǐng)域研究和檢測半導(dǎo)體雜質(zhì)、缺陷深能級、界面態(tài)等的重要儀器。根據(jù)半導(dǎo)體P-N結(jié)、金－半接觸結(jié)構(gòu)肖特基結(jié)的瞬態(tài)電容（△C～t）技術(shù)和深能級瞬態(tài)譜（DLTS）的發(fā)射率窗技術(shù)測量出的深能級瞬態(tài)譜，是一種具有高檢測靈敏度(檢測靈敏度通常為半導(dǎo)體材料中摻雜濟濃度的萬分之一)的實驗方法，能檢測半導(dǎo)體中微量雜質(zhì)、缺陷的深能級及界面態(tài)。通過對樣品的溫度掃描，可以給出表征半導(dǎo)體禁帶范圍內(nèi)的雜質(zhì)、缺陷深能級及界面態(tài)隨溫度（即能量）分布的DLTS譜，集成多種全自動的測量模式及全...

表面光電壓譜主要應(yīng)用于半導(dǎo)體材料或者器件的TPV測試和機理分析，光催化材料TiO2、C3N4、CdS、磷化物等、催化材料、分子篩、太陽能電池（單晶、多晶、染料敏化、鈣鈦礦）、光電化學(xué)的TPV、電化學(xué)材料的TPV等。光電壓譜采用白光偏置光路激發(fā)材料；大功率*脈沖激光器；采用專有技術(shù)的電磁屏蔽，無任何外界干擾；測試光路，水平與垂直可任意在線切換，實現(xiàn)固體樣品和液體樣品均可測試分析。光生載流子動力學(xué)主要測試技術(shù)，載流子動力學(xué)測試技術(shù)主要有電學(xué)和譜學(xué)兩類.電學(xué)方法主要是光電化學(xué)，測量...

氣溶膠粒徑譜儀觸摸屏式顯示和操作，集成網(wǎng)絡(luò)服務(wù)器，實時顯示測量數(shù)據(jù)，無需外接電腦，單臺儀器可以連續(xù)自動測量數(shù)周，儀器配置標(biāo)準(zhǔn)接口，過程控制系統(tǒng)或通用程序可以控制該儀器，所以特別適用于控制和監(jiān)測。粉塵發(fā)生器用于測量不同高度的飄浮顆粒物。樣品流量由外置真空泵來維持供給，其流量大小由定流量孔口流量計來控制。儀器可實時檢測氣溶膠顆粒，粒徑范圍在0.25微米至32微米，具有31個粒徑通道，測量結(jié)果可顯示為顆粒數(shù)目濃度或選擇顯示為顆粒質(zhì)量濃度。粉塵發(fā)生器易于安裝、結(jié)構(gòu)靈活、使用方便，只需...

多功能磁控濺射儀可以靈活運用多種膜生長技術(shù)，針對各種不同大小和形狀的樣品，非常方便切換沉積模式。多功能磁控濺射儀腔體的開放式設(shè)計，使得樣品大小從幾毫米到250毫米均可鍍層。樣品夾具可以輕松固定多個樣品并同時鍍膜。此系統(tǒng)真空腔內(nèi)連接一個300mm寬的快速通道門，可以非常方便和快速地切換樣品和靶源。這對于薄膜制備研究機構(gòu)，面對多種材料增加或改變沉積方式，轉(zhuǎn)換起來非常方便，并沒有任何空間限制。濺射儀主要用于納米級的單層及多層功能膜、各種硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜、鐵磁膜和磁性...

狹縫擠出式涂布機使用精密計量泵將過濾、除泡后的流體，保持恒定壓力輸送至超精密加工進口耐腐合金材料制擠壓腔體內(nèi)，通過直線吐出口將流體流延到片幅上。銅箔（或鋁箔）由放料機構(gòu)通過張力控制自動糾偏放料，通過擠壓頭將流體涂覆到箔帶表面，涂好的箔帶經(jīng)烘箱烘干，通過糾偏及張力控制，整齊復(fù)卷到收料氣漲軸，連續(xù)涂布，間隙涂布，連續(xù)斑馬紋涂布，“田”字格涂布（間隙涂布配合斑馬紋涂布）。擠壓頭采用日本優(yōu)質(zhì)耐腐，新型超硬不銹鋼制作，采用進口精密計量泵供料，精密伺服電機驅(qū)動，保證漿料流速穩(wěn)定。狹縫擠出...