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半自動(dòng)光刻機(jī)在高精度微加工中的實(shí)際應(yīng)用
半自動(dòng)光刻機(jī)在高精度微加工中的實(shí)際應(yīng)用 2025-04-15

隨著微電子技術(shù)和納米技術(shù)的快速發(fā)展,光刻技術(shù)成為了半導(dǎo)體制造和高精度微加工中的核心技術(shù)。尤其是半自動(dòng)光刻機(jī),憑借其較高的性價(jià)比和較為靈活的操作模式,已經(jīng)在許多高精度微加工領(lǐng)域中得到了廣泛應(yīng)用。一、半自動(dòng)光刻機(jī)的工作原理光刻技術(shù)通過利用光敏材料(光刻膠)在紫外光或激光照射下發(fā)生化學(xué)...

  • 快速動(dòng)力學(xué)停流裝置的流量控制 2019-05-07

    快速動(dòng)力學(xué)停流裝置是當(dāng)今市場上好的多路混合停流裝置,淬滅裝置,快速混合溫度突變等裝置系統(tǒng),杰出的產(chǎn)品設(shè)計(jì)解決您快速動(dòng)力學(xué)應(yīng)用中的所有需要??焖賱?dòng)力學(xué)停流裝置節(jié)省樣品,自動(dòng)濃度依賴性實(shí)驗(yàn)研究以及兩路混合實(shí)驗(yàn)研究,適用所有光學(xué)模式:吸收,熒光,圓二色,熒光各向異性光譜等測定比色池多樣性??焖賱?dòng)力學(xué)停流裝置的流量控制,可擴(kuò)展溫度適用范圍,可更換SFM附件,應(yīng)用于:化學(xué)淬滅,光學(xué)淬滅以及光學(xué)延時(shí),冷凍淬滅,X-射線散射停流,中子色散停流,EPR停流,低溫停流,自動(dòng)滴定,停流電導(dǎo),快速...

  • 皮可安培計(jì)的核心優(yōu)勢(shì)及產(chǎn)品特點(diǎn) 2019-04-24

    皮可安培計(jì)的核心優(yōu)勢(shì)及產(chǎn)品特點(diǎn)皮可安培計(jì)的測試需要把測試電壓或強(qiáng)制電壓施加到器件的輸入端,并測量導(dǎo)致的任何泄漏電流和偏移電流,這經(jīng)常是在1pA或更低的級(jí)別進(jìn)行的,使器件測試吞吐速度達(dá)到很高。表面貼裝元件的廣泛使用使它的印制電路板空間要求降到了低,并使多個(gè)測量電路的封裝能靠近測試夾具,可選帶上下限報(bào)警控制功能,用軸承支持活動(dòng)部分的儀表,不可避免地會(huì)存在摩擦而產(chǎn)生的摩擦力矩,它會(huì)在不同程度上阻礙活動(dòng)部分的運(yùn)動(dòng),使活動(dòng)部分停在偏離真實(shí)平衡位置的地方,致使儀表指示產(chǎn)生誤差。皮可安培計(jì)...

  • 表面光電壓譜保證良好的波長準(zhǔn)確度和重復(fù)性 2019-04-10

    表面光電壓譜保證良好的波長準(zhǔn)確度和重復(fù)性表面光電壓譜一體整合,空間更緊湊,操作更簡便;高精度,自動(dòng)化,數(shù)字化,讓實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)更準(zhǔn)確;高均勻可調(diào)節(jié)光纖光源,特別為光電極輻照設(shè)計(jì)。半導(dǎo)體材料的光生電壓性能的測試分析,可開展光催化等方面的機(jī)理研究,應(yīng)用于太陽能電池、光解水制氫等方面的研究,研究光生電荷的性質(zhì),如:光生電荷擴(kuò)散方向;解析光生電荷屬性等。表面光電壓譜模組化設(shè)計(jì),緊扣用戶需求,經(jīng)濟(jì)靈活,適用面廣,升級(jí)、改造、維護(hù)均很方便,可選大功率鹵鎢燈及大功率氙燈光源,也可使用用戶已有或的...

  • 氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器在質(zhì)量控制中有著廣泛應(yīng)用 2019-03-26

    氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器在質(zhì)量控制中有著廣泛應(yīng)用氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器基于單一顆粒的光散射的原理測量顆粒粒徑分布,而無需假設(shè)特定分布,例如對(duì)數(shù)正態(tài)粒徑分布,該方法將高敏感性、高準(zhǔn)確性和高速測量結(jié)合起來,并實(shí)現(xiàn)對(duì)高濃度氣溶膠顆粒的粒徑分布的測量。氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器采用近前向散射技術(shù),使得顆粒形狀和折射率對(duì)測量結(jié)果的影響降至低,并專為高濃度氣溶膠顆粒的測量進(jìn)行了設(shè)計(jì),技術(shù)上的解決解決方案就是通過空氣動(dòng)力學(xué)及光學(xué)聚焦產(chǎn)生一個(gè)足夠小的測量體積,小的測量體積能夠有效降低重疊誤差...

  • 激光直寫提高工作量和用戶安全程度 2019-03-22

    激光直寫提高工作量和用戶安全程度激光直寫光刻機(jī)是桌面型高分辨率激光光刻系統(tǒng),它通過固定連續(xù)的375nm或405nm紫外光源在光刻膠或紫外敏感膠中直接刻劃獲得微納結(jié)構(gòu),直寫面積高達(dá)4英寸,特征尺寸(寬度)可達(dá)1微米。激光直寫光刻機(jī)提供豎直和掃描直寫模式,確保直接軌跡偏離小于100nm,具有電動(dòng)光學(xué)聚焦系統(tǒng),提供快速的聚焦功能,從而適合各種厚度襯底的要求,并具有晶圓裝載和卸載系統(tǒng)裝備到襯底室供客戶選配,增強(qiáng)清潔程度,提高工作量和用戶安全程度。激光直寫不僅具有無掩模板直寫系統(tǒng)的靈活...

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