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顆粒物污染已成為全球環(huán)境和健康問(wèn)題的重要挑戰(zhàn)之一。為了有效監(jiān)測(cè)和評(píng)估大氣中的顆粒物濃度和大小分布，科學(xué)家們開(kāi)發(fā)了各種測(cè)量工具和技術(shù)。其中，掃描電遷移率粒徑譜儀（SMPS）作為一種先進(jìn)的儀器，廣泛應(yīng)用于顆粒物測(cè)量領(lǐng)域。本文將討論SMPS在顆粒物測(cè)量中的應(yīng)用。1、顆粒物粒徑分布測(cè)量：掃描電遷移率粒徑譜儀能夠快速、準(zhǔn)確地測(cè)量顆粒物的粒徑分布。通過(guò)使用一個(gè)可調(diào)節(jié)的電子束，SMPS能夠選擇性地捕獲特定粒徑范圍的顆粒物，并通過(guò)測(cè)量其在電場(chǎng)作用下的遷移速率來(lái)確定粒徑。這使得SMPS能夠提供...

高濃度氣溶膠稀釋器是一種用于將高濃度氣溶膠樣品稀釋至可測(cè)試范圍內(nèi)的儀器。正確使用氣溶膠稀釋器非常重要，因?yàn)椴徽_使用可能會(huì)影響結(jié)果的準(zhǔn)確性。以下是使用氣溶膠稀釋器的正確方法。首先，在使用高濃度氣溶膠稀釋器之前，請(qǐng)確保您已經(jīng)閱讀了儀器的說(shuō)明書(shū)，熟悉其工作原理和操作步驟。此外，請(qǐng)檢查儀器是否處于良好狀態(tài)，并按照廠家的要求進(jìn)行維護(hù)和校準(zhǔn)。接下來(lái)，請(qǐng)選擇合適的稀釋比例。每個(gè)實(shí)驗(yàn)都需要不同的稀釋比例，因此請(qǐng)根據(jù)實(shí)驗(yàn)需要選擇。在選擇稀釋比例時(shí)，應(yīng)考慮到所需的檢測(cè)靈敏度和采樣濃度。然后，準(zhǔn)...

納米顆粒探測(cè)器是一種新興的環(huán)境監(jiān)測(cè)技術(shù)，能夠檢測(cè)和分析空氣、水和土壤中的微小顆粒。這些顆粒可能包含有毒或危險(xiǎn)物質(zhì)，因此對(duì)于環(huán)境保護(hù)具有重要意義。本文將介紹納米探測(cè)器的原理、應(yīng)用以及對(duì)環(huán)境監(jiān)測(cè)的貢獻(xiàn)。首先，讓我們來(lái)了解一下納米顆粒探測(cè)器的工作原理。它們通常由一個(gè)激光器和一個(gè)探測(cè)器組成。激光器會(huì)發(fā)射出一束光線，并照射在空氣或液體中。當(dāng)光線與顆粒相遇時(shí)，會(huì)散射回來(lái)并被探測(cè)器捕捉到。通過(guò)計(jì)算捕捉到的反射光強(qiáng)度和方向，可以確定顆粒的大小、形狀和化學(xué)成分。這種方法非常靈敏，可以檢測(cè)到直徑...

一、單原子層逐次沉積，沉積層極均勻的厚度和優(yōu)異的一致性等就體現(xiàn)出來(lái)，而沉積速度慢的問(wèn)題就不重要了。以下主要討論原子層沉積原理和化學(xué)，原子層沉積與其他相關(guān)技術(shù)的比較，原子層沉積設(shè)備，原子層沉積的應(yīng)用和原子層沉積技術(shù)的發(fā)展。二、通過(guò)將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)器并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種方法(技術(shù))。當(dāng)前驅(qū)體達(dá)到沉積基體表面，它們會(huì)在其表面化學(xué)吸附并發(fā)生表面反應(yīng)。在前驅(qū)體脈沖之間需要用惰性氣體對(duì)原子層沉積反應(yīng)器進(jìn)行清洗。由此可知沉積反應(yīng)前驅(qū)體物質(zhì)能否在被沉積...

鹽霧氣溶膠發(fā)生器是一種常見(jiàn)的實(shí)驗(yàn)設(shè)備，被廣泛應(yīng)用于材料表面腐蝕、防護(hù)和涂層等性能測(cè)試。其基本原理是將鹽水噴霧加熱，產(chǎn)生水蒸氣并與空氣混合，形成細(xì)小顆粒的鹽霧氣溶膠。這些氣溶膠粒子具有不同的粒徑范圍，對(duì)于實(shí)驗(yàn)結(jié)果和應(yīng)用效果具有重要影響。那么，鹽霧氣溶膠發(fā)生器的粒徑范圍是多少呢？首先，我們需要了解氣溶膠粒徑的定義和分類(lèi)。氣溶膠粒徑是指氣態(tài)物質(zhì)中懸浮的微小顆粒的尺寸大小，通常用直徑表示。根據(jù)粒徑大小，氣溶膠可以分為超細(xì)粒子（10μm）等幾類(lèi)。其中，氣溶膠的細(xì)粒子和粗粒子對(duì)于環(huán)境污染...

一、1、樣品襯底在蒸鍍前可以通過(guò)離子槍進(jìn)行清潔。2、樣品臺(tái)的三維轉(zhuǎn)動(dòng)(平面內(nèi)和垂直于平面)。3、可以注入氣體(特別是氧氣)，并且可控制其壓強(qiáng)。4、蒸鍍厚度控制：頻率：10-4Hz；沉積速度分辨率：0.001nm/s；沉積厚度分辨率：0.01nm/s；沉積厚度可重復(fù)性：±1sxrate。二、1、真空度三、直徑4英寸基片，片內(nèi)均勻性優(yōu)于±3%，片間均勻性優(yōu)于±2%，重復(fù)性優(yōu)于±2%。四、真空蒸發(fā)鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材...